Crecimiento epitaxial
Keywords: Crecimiento epitaxial, Circuito integrado, Cristal, Deposición en semiconductores, Difusión en estado sólido, Fabricación de circuitos integrados, Fusión, Física del estado sólido, Implantación iónica
El crecimiento epitaxial o epitaxia es uno de los procesos en la fabricación de circuitos integrados.
A partir de una cara de un cristal de material semiconductor se hace crecer un substrato con la misma estructura cristalina. Mediante esta técnica se puede controlar de forma muy precisa el nivel de impurezas en el semiconductor, que son los que definen su caracter (N o P). Para hacer esto se calienta el semiconductor hasta casi su punto de fusión y se pone en contacto con el material de base para que, al enfriarse, recristalize con la estructura adecuada.
Hay varios métodos:
- Crecimiento epitaxial en fase vapor (VPE).
- Crecimiento epitaxial en fase líquida (LPE).
- Crecimiento epitaxial por haces moleculares (MBE).
Véase también
- Implantación iónica
- Deposición en semiconductores
- Oxidación en semiconductores
- Litografía
- Difusión en estado sólido
- Fabricación de circuitos integrados
- VLSI
- Física del estado sólido